检测项目

载流子浓度检测:测量半导体中自由电子或空穴的密度,用于评估材料的导电性能和杂质水平,直接影响元件的电流承载能力。

电子迁移率测量:确定载流子在电场下的移动速度,反映材料的导电效率,对高频器件的性能优化至关重要。

禁带宽度测定:通过光谱或电气方法分析半导体的能带间隙,影响元件的工作电压和光学特性,确保设计符合应用需求。

击穿电压测试:评估元件在高压条件下的绝缘强度,防止在高功率应用中发生击穿失效,保证可靠性。

热导率测量:分析材料的热传导能力,关键对于散热设计,防止过热导致性能退化或损坏。

界面态密度分析:检测异质结界面处的缺陷态密度,影响器件的稳定性和开关特性,确保界面质量。

晶体缺陷检测:使用显微镜技术识别晶体中的位错和空位,评估结构完整性,防止性能波动。

表面粗糙度测量:量化表面平整度和纹理,影响器件接触均匀性和电性能,确保制造一致性。

厚度均匀性检验:测量薄膜或外延层的厚度分布,保证元件参数一致性,避免性能偏差。

化学成分分析:通过光谱学方法确定元素组成和杂质含量,验证材料纯度和化学计量比。

检测范围

GaN高电子迁移率晶体管(HEMT):用于射频放大和功率开关应用,具有高频率操作和低损耗特性,适用于通信和雷达系统。

GaN基发光二极管(LED):应用于固态照明和显示技术,提供高亮度和能效,需检测光学和电气参数。

射频功率放大器:在无线通信系统中放大信号,支持高频段操作,检测确保线性度和效率。

电力电子转换器:用于电源管理和能量转换,提高功率密度,检测涉及热和电气性能。

微波器件:在卫星和雷达系统中处理微波信号,要求高频率稳定性,检测包括S参数和噪声系数。

光电探测器:用于光通信和传感应用,转换光信号为电信号,检测响应度和暗电流。

激光二极管:产生相干光用于医疗和工业,检测阈值电流和光谱特性,确保输出稳定性。

太阳能电池:利用GaN材料提高光电转换效率,检测IV曲线和量子效率,优化能源 harvesting。

传感器器件:用于环境监测和生物检测,基于GaN的敏感特性,检测灵敏度和选择性。

集成电路:集成多个GaN器件用于复杂系统,检测互连可靠性和功能完整性,确保系统性能。

检测标准

ASTM F76-2008:标准测试方法用于测量 extrinsic 半导体单晶中的霍尔迁移率和霍尔系数,规范载流子参数测量程序。

ISO 14707:2015:表面化学分析辉光放电质谱法使用导则,适用于化学成分深度剖析和杂质检测。

GB/T 14848-2017:半导体器件微电子机械系统技术条件,规定MEMS器件的机械和气候测试方法。

IEC 60749-2020:半导体器件机械和气候试验方法,涵盖温度、湿度和振动等环境测试。

JESD22-A101D:稳态温湿度偏置寿命试验标准,用于评估器件在潮湿环境下的可靠性。

ISO 17560:2002:表面化学分析二次离子质谱法深度剖析方法,规范成分分布测量。

GB/T 6495-2017:光伏器件测试方法,包括电流电压特性和效率测量,适用于GaN基太阳能电池。

ASTM E112-2013:晶粒度测定标准方法,用于评估半导体材料的晶体结构均匀性。

IEC 62607-2014:纳米制造纳米电子器件性能测试方法,规范纳米级器件的电气特性评估。

GB/T 2828-2012:抽样检验程序,用于批量生产元件的质量控制和统计检测。

检测仪器

霍尔效应测量系统:通过施加磁场和电场测量载流子浓度和迁移率,提供精确的电气参数数据用于材料评估。

扫描电子显微镜:提供高分辨率表面形貌图像,用于缺陷分析和结构观察,确保元件微观质量。

X射线衍射仪:分析晶体结构和晶格参数 through 衍射图谱,用于相组成和结晶度测定。

探针台:配合源测量单元进行电气测试如I-V曲线,用于击穿电压和接触电阻测量。

热分析仪:测量热导率和热扩散系数,评估材料的热管理性能,防止过热失效。

原子力显微镜:用于纳米级表面粗糙度和形貌测量,提供三维 topography 数据用于质量控制。

二次离子质谱仪:深度剖析化学成分和杂质分布,用于验证材料纯度和界面特性。

检测服务流程

确认测试对象及项目:根据要求确认测试对象并进行初步检查,安排样品寄送或上门采样;

制定与确认实验方案:制定实验方案并与委托方,确认验证方案的可行性和有效性;

签署委托书与支付:签署委托书,明确测试细节,确定测试费用并支付;

执行与监控实验测试:严格按照实验方案执行测试,记录数据,进行必要的控制和调整;

数据分析与出具报告:分析数据并进行归纳,撰写并审核测试报告,出具报告,并反馈结果给委托方。

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